पोंछा फिल्म आणविक आसवन
वाइप फिल्म आणविक आसवन एक परिष्कृत पृथक्करण तकनीक है जो उच्च वैक्यूम स्थितियों में कार्य करता है ताकि गर्मी-संवेदनशील यौगिकों को कुशलतापूर्वक अलग किया जा सके। इस उन्नत प्रक्रिया में एक यांत्रिक रूप से पोंछे जाने वाले, पतली फिल्म वाष्पीकरण प्रणाली का उपयोग किया जाता है जहां फ़ीड सामग्री को एक गर्म सतह पर पतली फिल्म के रूप में वितरित किया जाता है। इस तकनीक की विशिष्ट विशेषता इसकी आणविक स्तर पर अलगाव करने की क्षमता में निहित है, जो अत्यंत कम दबावों और अपेक्षाकृत कम तापमान पर काम करता है। इस प्रक्रिया में द्रव की एक पतली फिल्म का निरंतर गठन शामिल है जो घूर्णन वाले वाइपरों द्वारा वाष्पीकरण की दीवार पर फैली हुई है, जिससे अधिकतम गर्मी हस्तांतरण दक्षता और न्यूनतम निवास समय सुनिश्चित होता है। आणविक आसवन प्रक्रिया विशेष रूप से ऊष्मा संवेदनशील सामग्री के प्रसंस्करण के लिए मूल्यवान है, क्योंकि यह उच्च शुद्धता पृथक्करण प्राप्त करते हुए ऊष्मा अपघटन को रोकता है। यह प्रौद्योगिकी विभिन्न उद्योगों में व्यापक अनुप्रयोग पाती है, जिसमें दवा निर्माण, खाद्य प्रसंस्करण, सौंदर्य प्रसाधन उत्पादन और विशेष रासायनिक शोधन शामिल हैं। उच्च चिपचिपाहट वाली सामग्री को संभालने की क्षमता और प्रसंस्करण मापदंडों पर सटीक नियंत्रण के कारण यह उच्च गुणवत्ता वाले आसुत और केंद्रित पदार्थों के उत्पादन के लिए एक अमूल्य उपकरण है। यह तकनीक विभिन्न आणविक भारों और उबलने के बिंदुओं वाले यौगिकों को अलग करने में उत्कृष्ट है, जिससे यह शुद्धिकरण प्रक्रियाओं के लिए आवश्यक है, जिन्हें असाधारण परिशुद्धता और उत्पाद की गुणवत्ता की आवश्यकता होती है।